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CR-201高效铬走位剂
（催化剂）
一、工艺特点
1、阴极电流效率22~27%，沉积速度快，节省电能。
2、不含氟化物，不腐蚀阴极低电流密度区之工件底材。
3、镀层蓝白金属色泽感且细致、与基体结合牢固。
4、镀层硬度高。
5、镀层微裂纹数达400条/厘米以上，具有高耐蚀性。
6、镀层平滑、厚度均匀，分散能力强。
7、工艺稳定，维护简单，便于操作，直接转换！
二、工艺规范
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工艺参数
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工艺范围
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最 佳 值
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铬酸
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150~300克/升
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250克/升
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硫酸
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0.8~3.5克/升
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1.0克/升
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铬酸：硫酸
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150-300：1
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250:1质量比
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三价铬
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2-5克/升
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2克/升
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CR-201
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5~20毫升/升
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15毫升/升
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温度
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35℃～45℃
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38℃
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阴极电流密度
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5~20安培/平方分米
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10安培/平方分米
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镀液比重
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15-23°波美
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21°波美
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阳、阴极比例
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>1.5
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2
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三、镀液的配制
1、镀槽中加入60%体积之去离子水。
2、按工艺规范加入所需数量的铬酸、硫酸和CR-201走位剂，充分搅拌。
3、添加去离子水至所需体积。
4、恒温至35℃左右,电解4～6小时即可使用。
5、备注：三价铬也可加入一定量的草酸或者乙醇来代替小阳极大电流电解
四、设备
镀槽：铁槽内衬SPVC或橡胶，及其它认可材料。
阳极：含锡7～13%（重量）之铅锡合金。
整流器：纹波系数须控制在5%以内。
五、前处理与镀液的转化
镀液转化：普通镀铬转化为CR-201镀铬工艺，将镀液样品交本公司化验，确认以往添加剂不含氟化物，金属杂质不超过7克/升，按所需量加入CR-201催化剂，电解两小时即可生产。
六、镀液的补充
消耗量：按照铬酐与CR-201催化剂比例100KG：4L添加，维持镀液之铬酐浓度即可。
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